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Bearbeiter: H. Gajewski , R. Hünlich , W. Röpke
Kooperation: J. Knopke, R. Rothe (alpha microelectronics gmbh Frankfurt (Oder)), B. Heinemann (Institut für Halbleiterphysik Frankfurt (Oder) GmbH), N. Strecker (ISE Zürich, Schweiz)
Förderung: BMBF
Beschreibung der Forschungsarbeit: In diesem Projekt geht es um die Erweiterung des Bauelementesimulators WIAS-TeSCA durch die Kopplung des van-Roosbroeck-Systems mit der Wärmeleitungsgleichung , damit Anwendungsfälle mit hohen Temperaturgradienten adäquat behandelt werden können. Der Betrieb von Leistungstransistoren ist hierfür ein typisches Beispiel. Die in den Smart-Power-Schaltkreisen der Partnerfirma alpha microelectronics gmbh auftretenden Hochvoltbauelemente (HV-Bauelemente) mit einer Spannungsfestigkeit von mehreren 100V sind gut geeignete Testobjekte für solch einen Anwendungsfall.
Im Berichtszeitraum wurden Arbeiten zu folgenden Punkten
durchgeführt:
·Untersuchungen zur physikalischen und mathematischen
Modellierung,
·Implementierung der Wärmeleitungsgleichung in das
Programmsystem,
·Testrechnungen an einfachen Standardstrukturen,
·Testrechnungen an realen Strukturen
der Partnerfirma.
Über die Aktivitäten zu den ersten beiden Punkten
wird im Beitrag auf S. berichtet.
Die Testrechnungen
an einfachen
Strukturen dienten zur Prüfung der neu entwickelten Programmteile
und der benutzten physikalischen Modelle.
Zum vierten Punkt ergaben sich neue Fragestellungen aus der Tatsache, dass die Partnerfirma Änderungen der Technologie vorbereitet, nämlich den Wechsel von Siliziumscheiben mit komplett dielektrisch isolierten Wannen (DI-Substrat) zu Scheiben mit durchgehender Oxidschicht in definierter Tiefe und Trench-Seitenisolation der Wannen (TDI-Substrat). Die wesentlichen Vorteile der neuen TDI-Scheiben sind deren einfachere Herstellung sowie die definierte Lage der Trenches, was eine bessere Ausnutzung der Chipfläche garantiert. Zur Vorbereitung dieser Technologie werden Prozess- und Bauelementesimulation eingesetzt, um begründete Forderungen an die neuen TDI-Scheiben zu formulieren und Abschätzungen über das Verhalten der HV-Bauelemente zu erhalten. Die Anzahl der sehr teuren Testpräparationen soll auf diese Weise reduziert werden.
Als repräsentative Vertreter für die Schalttransistoren,
die mit der vollen Spannung
belastet werden, sind zwei typische
DMOST-Teststrukturen mit einem rotationssymmetrischen Aufbau
ausgewählt worden.
Diese Strukturen wurden mit dem Prozess-Simulator
DIOS berechnet,
wobei dank der Erfahrungen aus den Simulationen zu den HV-pMOST-Strukturen,
deren Optimierung in der ersten Phase des Projekts im Vordergrund
gestanden hatte, keine weiteren Probleme auftraten.
Die anschließende Berechnung der Kennlinien erfolgte mit
WIAS-TeSCA. Wesentliche Kriterien für die Bewertung von HV-Bauelementen sind die
Durchbruchspannung und der
Einschaltwiderstand. Deshalb wurden Kennlinien bis zum
Durchbruchbereich für 0V Gate-Spannung (Kurzschluss Source-Gate,
Messbedingung für die Durchbruchspannung) und für 10V Gate-Spannung
(Messkurve für die Bestimmung des Einschaltwiderstandes) berechnet.
Abbildung 1 zeigt den Potentialverlauf in einer DMOST-Struktur mit zwei Kanalringen bei einer Drainspannung im Durchbruchbereich und die zugehörige Verteilung der Avalancherate. Kennlinien zu typischen Varianten der TDI-Substrate sind in Abb. 2 dargestellt. Durch derartige Rechnungen konnten Aussagen erhalten werden, die für die Firma wertvolle Entscheidungshilfen beim Übergang von den DI-Substraten zu den TDI-Substraten darstellen.
Die eben genannten Ergebnisse sind mit dem jeweils aktuellen Stand von WIAS-TeSCA, aber noch ohne Berücksichtigung von Temperatureffekten erzielt worden. Gegenwärtig wird untersucht, wie die DMOST-Strukturen von WIAS-TeSCA mit angekoppelter Wärmeleitungsgleichung bewältigt werden und wie sich die bisher erhaltenen Ergebnisse ändern. Als Beispiel zeigt Abb. 3 simulierte Temperaturverläufe in einer DMOST-Struktur bei verschiedenen Drain-Source-Spannungen.
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